УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ

Научно-технический журнал
2013, том 1, № 2
УДК 533.9

Экспериментальное исследование сильноточного импульсного магнетронного разряда с управляемой конфигурацией внешнего магнитного поля

А.В. Казиев, П.А. Хромов, И.А. Щелканов, Г.В. Ходаченко, Т.В. Степанова, А.В. Тумаркин

       Представлены результаты исследования влияния дополнительного магнитного поля, создаваемого специально разработанной системой катушек постоянного тока, на пространственное распределение распылённого потока в процессе сильноточного импульсного магнетронного разряда (СИМР). Проведены измерения параметров плазмы СИМР как с основной, так и с модифицированной конфигурацией внешнего магнитного поля. Показано, что применение дополнительной магнитной системы слабо влияет на параметры плазмы в разрядной области, однако позволяет заметно повысить скорость нанесения покрытий и эффективность расходования материала катода.

PACS: 52.80.Sm, 52.75.-d, 52.70.-m, 52.25.Xz, 81.15.Cd
Ключевые слова: импульсный разряд, магнетронный разряд, управление распылённым потоком, скорость осаждения, импульсная зондовая диагностика.

Казиев Андрей Викторович, аспирант.
Хромов Павел Александрович, студент.
Щелканов Иван Анатольевич, инженер.
Ходаченко Георгий Владимирович, доцент.
Степанова Татьяна Владимировна, инженер 1-й кат..
Тумаркин Александр Владимирович, аспирант.
НИЯУ «МИФИ»..
Россия, 115409, Москва, Каширское шоссе, 31.
Тел. (495) 788-56-99, доб. 8091.
E-mail: avkaziev@gmail.com

Статья поступила в редакцию 10 февраля 2013 г.
© Казиев А.В., Хромов П.А., Щелканов И.А., Ходаченко Г.В., Степанова Т.В., Тумаркин А.В., 2013
  Литература
1. Кузьмичев А. И. Магнетронные распылительные системы. Книга 1. Введение в физику и технику магнетронного распыления. — Киев: Аверс, 2008
2. Мозгрин Д. В., Фетисов И. К., Ходаченко Г. В. // Физика плазмы. 1995. Т. 21. С. 422
3. Hamaguchi S., Rossnagel S. M. // J. Vac. Sci. Technol. B. 1995. V. 13. P. 183
4. Petrov I., Barna P. B., Hultman L., Greene J. E. // J. Vac. Sci. Technol. A. 2003. V. 21. P. S117
5. Svadkovski I. V., Golosov D. A., Zavatskiy S. M. // Vacuum. 2003. V. 68. P. 283
6. Bohlmark J., Ostbye M., Lattemann M., et al.. // Thin Solid Films. 2006. V. 515. P. 1928
Скачать полный текст статьи в PDF-формате


 Содержание выпуска № 2