УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИНаучно-технический журнал2013, том 1, № 4 |
УДК 681.586.62; 536.516.2; 629.5.052.5; 629.3.052.5; 681.586.36; 531.728Термомеханическая чувствительность
Р.З. Хафизов, Е.А. Фетисов, Р.В. Лапшин, Е.П. Кириленко, В.Н. Анастасьевская, И.В. Колпаков
|
Хафизов Ренат Закирович, научный сотрудник1. Фетисов Евгений Александрович, начальник отдела1. Лапшин Ростислав Владимирович, научный сотрудник1,2. Кириленко Елена Петровна, ведущий инженер1. Анастасьевская Виктория Николаевна, студент1. Колпаков Игорь Владимирович, студент1. 1Московский институт электронной техники. Россия, 124498, Москва, г. Зеленоград, проезд 4806, 5. Тел.: 8 (499) 720-69-59. E-mail: fetisov@dsd.miee.ru 2НИИ Физических проблем им. Ф. В. Лукина. Россия, 124460, Москва, г. Зеленоград, проезд 4806, 6. Статья поступила в редакцию 15 января 2013 г. © Хафизов Р.З., Фетисов Е.А., Лапшин Р.В., Кириленко Е.П., Анастасьевская В.Н., Колпаков И.В., 2013 |
Литература 1. Datskos P. G., Lavrik N. V., Rajic S. // Rev. Sci. Instrum. 2004. V. 75. No. 4. P. 1134 2. Hunter S. R., Maurer G. S., Simelgor G., Radhakrishnan S., Gray J. // Proc. of SPIE. 2007. V. 6542. P. 1 3. Hunter S. R., Maurer G. S., Simelgor G., et al.// Proc. of SPIE. 2008. V. 6940. P. 1 4. Toy M. F., Ferhanoglu O., Torun H., Urey H. // Sens. Actuat. A. 2009. V. 156. P. 88 5. Rogalski A. Infrared detectors. – Boca Raton: CRC Press, 2nd ed., USA, 2011. 6. Budzier H., Gerlach G. Thermal infrared sensors: theory, optimisation and practice – John Wiley & Sons, UK, 2011. 7. Zhao Y., Choi J., Horowitz R., et al.// Proc. of SPIE. 2003. V. 4820. P. 164. 8. Li C., Jiao B., Shi S., Chen D., et al. // Meas. Sci. Technol. 2006. V. 17. P. 1981 9. Serry F. M., Stout T. A., Zecchino M. J.,et al.. 3D MEMS metrology with optical profilers. – Tucson: Veeco Instruments Inc., USA, 2006. 10. Zecchino M., Forest C. R. Quantifying laser-induced thermal deformation of a MEMS device static and dynamic optical profiling charac-terize heating-cooling cycle. – Tucson: Veeco Instruments Inc., USA, 2004. 11. Novak E. Low-noise interferometry enables characterization of steep and rough surfaces. – Tucson: Veeco Instruments Inc., USA, 2008. |