УДК 621.387.143
Создание тонких защитных углеродных покрытий на алюминии
М.С. Зибров, А.А. Писарев, Г.В. Ходаченко, Д.В. Мозгрин
Тонкие аморфные графитоподобные углеродные и алмазоподобные углеводородные пленки наносились на алюминиевые фольги и
алюминиевые пластины с помощью магнетронных и ВЧ-разрядов. Полученные покрытия испытывались на коррозионную стойкость
в водном растворе NaOH (30 вес.%). Показана зависимость защитных свойств покрытий от способа их нанесения, подготовки
поверхности подложки и наличия промежуточных слоев. Обсуждаются механизмы взаимодействия раствора щелочи с алюминием,
покрытым тонкой углеродной пленкой.
PACS: 81.15.Cd, 81.15.Gh, 81.65.Kn
Ключевые слова: экоррозия, алюминий, защитные покрытия, углеродные пленки, графитоподобные пленки, алмазоподобные пленки.
Зибров Михаил Сергеевич, инженер.
Писарев Александр Александрович, профессор.
Ходаченко Георгий Владимирович, доцент.
Мозгрин Дмитрий Витальевич, доцент.
НИЯУ «МИФИ»..
Россия, 115409, Москва, Каширское шоссе, 31.
Тел.: 8-903-154-29-15. Е-mail: mzibrov@gmail.com
Статья поступила в редакцию 2 марта 2013 г.
© Зибров М.С., Писарев А.А., Ходаченко Г.В., Мозгрин Д.В., 2013
|
|
Литература
1. Глинка Н.Л. Общая химия. ? М.: Интеграл-Пресс, 2004.
2. Neuville S., Matthews A. // Thin Solid Films. 2007. V. 515. No. 17. P. 6619.
3. Lensch O., Volz K., Kiuchi M., Ensinger W. // Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B. 2001. V. 175–177. P. 575.
4. Srividya C., Babu S.V. // Chem. Mater. 1996. V. 8. No. 10. P. 2528.
5. Jones B.J., Mahendran A., Anson A.W. et al // Diamond Relat. Mater. 2010. V. 19. No. 7–9. P. 685.
6. Adelhelm C., Balden M., Rinke M., Stueber M. // J. Appl. Phys. 2009. V. 105. No. 3. P. 033522.
7. Tamor M.A., Vassell W.C., Carduner K.R. // Appl. Phys. Lett. 1991. V. 58. No. 6. P. 592.
8. Gasparyan Y., Mayer M., Pisarev A. et al // J. Appl. Phys. 2011. V. 110. No. 3. P. 033303.
9. Schauer J.-C., Winter J. // J. Appl. Phys. 2008. V. 103. No. 11. P. 113302.
10. Jacobsohn L.G., Capote G., Maia da Costa M.E.H. et al // Diamond Relat. Mater. 2002. V. 11. No. 12. P. 1946.
11. Kogel G., Schodlbauer D., Triftshauser W., Winter J. // Phys. Rev. Lett. 1988. V. 60. No. 15. P. 1550.
12. Nakahara S. // Thin Solid Films. 1979. V. 64. No. 1. P. 149.
13. Da Silva M.F., Shimizu K., Kobayashi K. et al // Corros. Sci. 1995. V. 37. No. 9. P. 1511.
14. Mattox D.M. Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing. ? Boston: William Andrew Publishing, 2010.
15. Liu C., Hu D., Xu J. et al // Thin Solid Films. 2006. V. 496. No. 2. P. 457.
16. Атаманов М.В., Пашенцев В.Н., Ходаченко Г.В. // Материалы XV научно-технической конференции «Вакуумная наука и техника», Сочи, 2008. ? М.: МИЭМ, 2008. C. 104.
|
Скачать полный текст статьи в PDF-формате
 Содержание выпуска № 2
|